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    南昌CVD气相沉积炉

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    南昌CVD气相沉积炉

    • 所属分类：南昌半导体与其他

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    • 发布日期：2024/06/15
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    详细介绍

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            用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。由于CVD技术具有成膜范围广、重现性好等优点，被广泛用于多种不同形态的成膜。

           主要应用集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域

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               用于满足CVD-TaC生长过程中的环境要求。

            控制系统由PLC控制，控制准确，自动化程度高，可实现全自动/手动无扰动切换，操作简单可靠、节省能源、无环境污染。

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